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    《彩虹橙》殿堂試煉技巧之機(jī)制&背擊

    時(shí)間:2025-03-10 18:16:17
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    《彩虹橙》殿堂試煉技巧之機(jī)制&背擊

    【#游戲攻略# #《彩虹橙》殿堂試煉技巧之機(jī)制&背擊#】

    By.小孩姐頭號(hào)粉絲

    首先分享在殿堂中一個(gè)必不可少的技巧——背擊

    什么是背擊:攻擊背部所造成的傷害,由于人物屬性中存在<背擊傷害>屬性,所以相比正面攻擊,背擊時(shí)能造成更高傷害。

    如何操作:與敵方朝向一致。

    下圖解釋什么叫做<朝向一致>,附大型BOSS與小型BOSS如何站位:

    PS:小型boss操作時(shí)盡量與boss重疊,圖示為了更直觀感受背傷站位僅供參考。

    接下來(lái)解釋一下殿堂的三種機(jī)制的出現(xiàn)時(shí)間以及如何破解:

    新手玩家會(huì)問(wèn):為什么要了解機(jī)制并破除?

    答:因?yàn)榈钐迷嚐挼腷oss存在高額的各類(lèi)抗性與防御,破除機(jī)制后會(huì)使得boss陷入短暫的<破防>狀態(tài),玩家可利用此時(shí)對(duì)boss造成大量傷害。

    機(jī)制1.boss召喚小怪,小怪會(huì)攻擊玩家。

    解決思路:預(yù)留角色覺(jué)醒技能,在接近上述機(jī)制時(shí)間時(shí)取消自動(dòng)或原地攻擊,在小怪出現(xiàn)的瞬間利用覺(jué)醒技能的高額傷害倍率以及大范圍的AOE技能特效達(dá)到快速清場(chǎng)的效果,即可使BOSS陷入短暫<破防>狀態(tài),玩家即可利用這段時(shí)間對(duì)boss造成大量。

    機(jī)制2.場(chǎng)內(nèi)出現(xiàn)<躲避>箭頭,并伴隨<區(qū)域>動(dòng)畫(huà)出現(xiàn),倒計(jì)時(shí)結(jié)束后boss會(huì)對(duì)<區(qū)域>外的玩家造成大量傷害。

    解決思路:跟隨<區(qū)域>動(dòng)畫(huà)(途中左邊所示光圈),且角色在<區(qū)域>動(dòng)畫(huà)內(nèi),即可免受機(jī)制產(chǎn)生的高額傷害。在本機(jī)制結(jié)束后,BOSS陷入短暫<破防>狀態(tài),玩家即可利用這段時(shí)間對(duì)boss造成大量。

    機(jī)制3.場(chǎng)內(nèi)出現(xiàn)<阻止蓄力>箭頭,倒計(jì)時(shí)結(jié)束未能破解<蓄力>,玩家會(huì)受到boss的高額傷害

    解決思路:點(diǎn)擊<阻止蓄力>,使接下來(lái)的傷害起到破除boss蓄力攻擊的效果,在本機(jī)制結(jié)束后,BOSS陷入短暫<破防>狀態(tài),玩家即可利用這段時(shí)間對(duì)boss造成大量。

    總結(jié):在boss的三種機(jī)制中,機(jī)制3<阻止蓄力>是最難的一個(gè),由于殿堂boss有極高的各類(lèi)抗性,使得在這個(gè)機(jī)制出現(xiàn)時(shí),玩家只能依靠自身練度強(qiáng)行破解此機(jī)制。

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